BEGIN:VCALENDAR
PRODID:-//eluceo/ical//2.0/EN
VERSION:2.0
CALSCALE:GREGORIAN
BEGIN:VEVENT
UID:c727526ab458c942fcdee75400dfce18
DTSTAMP:20260616T095256Z
SUMMARY:Setkání s keňskými IT firmami v Praze
DESCRIPTION:Název akce: Setkání s keňskými IT firmami v Praze\nURL: ht
 tps://www.spcr.cz/setkani-s-kenskymi-it-firmami-v-praze\nPopis: \n\nCzechI
 nvest si dovoluje pozvat české společnosti na setkání s delegací př
 edních keňských IT firem\, zaměřené na možnosti spolupráce v oblas
 ti digitálních služeb\, vývoje softwaru a outsourcingu. Setkání se k
 oná 25. června 2026 od 13:00 na adrese AFI\, Štěpánská 11\, Praha 1.
 Akce je určena českým firmám\, startupům a technologickým týmům\, 
 které mají zájem o nové kapacity\, partnerství a rozšíření svých
  IT aktivit mimo evropský trh. V kontextu dlouhodobého nedostatku IT odb
 orníků v Evropě se Keňa profiluje jako rychle rostoucí technologické
  centrum („Silicon Savannah“) s mladými\, vzdělanými a anglicky mlu
 vícími specialisty\, kteří již spolupracují s evropskými partnery.C
 ílem setkání je propojit keňské poskytovatele IT služeb s českými 
 firmami a otevřít diskusi o:spolupráci v oblasti vývoje softwaru a IT 
 outsourcingufungujících modelech mezinárodních technologických týmů
 možnostech dlouhodobého partnerstvísdílení zkušeností z praxe evrop
 sko-africké spolupráceProč Keňa?IT talenty: rostoucí komunita vývoj
 ářů\, datových specialistů a expertů na kybernetickou bezpečnostEfe
 ktivita: možnost optimalizace nákladů při zachování kvalityJazyková
  vybavenost: silná angličtina a dobrá kompatibilita s evropskými týmy
 Inovace: dynamický startupový ekosystém s rostoucí podporouPřehled a 
 profily delegace\, která během své cesty navštíví Německo a Českou
  republiku\, najdete v přiložené brožuře.V případě dotazů se mů
 žete obrátit na:Adéla FučíkováAdela.Fucikova@czechinvest.gov.cz \n
URL:https://www.spcr.cz/setkani-s-kenskymi-it-firmami-v-praze
DTSTART:20260625T130000
DTEND:20260625T170000
LOCATION:Praha
END:VEVENT
END:VCALENDAR
